产品概述
HMPS-2080SP微波等离子体CVD设备
成都纽曼和瑞微波技术有限公司是专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及其设备生产、具有自主知识产权的高新技术企业。公司静心钻研微波等离子体MPCVD系统已有22年的经验，目前为国内外客户提供了上百台MPCVD设备，凭借产品优异的性能和高质量的服务，公司获得用户广泛认可和好评。
HMPS-2080SP微波等离子体MPCVD系统沉积速率快、沉积质量高、沉积面积超过70mm。适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的沉积，材质表面处理、低温氧化物的生长等。
性能特点
◆微波反应腔采用新一代容积圆柱腔体，功率密度大，承载功率高。
◆放电区域直径可达70mm，均匀沉积区直径≥68mm。
◆高功率高稳定性固态微波功率源，微波功率输出稳定性高。
◆进口高精度MFC，噶可靠性压力控制系统。
◆8L/s双级旋片真空泵或分子泵（选配）。
◆性能先进，安全、可靠性强、重现性好，操作简便。
◆多参数实时监测、采集与记录，PLC屏幕控制，多重联锁保护与报警。
技术指标
| （1） | 型号 | HMPS-2080SP |
| （2） | 电源 | AC380±10% V 三相五线制 50Hz，额定输入＜10KVA |
| （3） | 微波输出功率 | 0.5~8kW 连续可调 |
| （4） | 功率稳定度 | 优于2% |
| （5） | 纹波 | ≤1% |
| （6） | 微波频率 | 2450MHz±50MHz |
| （7） | 测温方式 | 红外300~1400℃ |
| （8） | 极限真空度 | ≤3.7×10-3Torr或≤6×10-6Torr |
| （9） | 腔体内工作压力 | 5torr~226torr |
| （10） | 均匀沉积区 | Φ68mm |
| （11） | 放电区 | Φ70mm |
| （12） | 工作气体 | H2 /CH4 /N2 / O2 (可选CO2 或Ar) ,可扩展为5路 |
| （13） | 真空漏率 | ≤1.0x10 -9Pa·m/s |
| （14） | 工作环境 | 温度15-40℃，相对湿度≤60%，无腐蚀性气体 |
| （15） | 冷却水 | ＞22L/Min |
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