产品概述
HMPS-2150S微波等离子体CVD设备
成都纽曼和瑞微波技术有限公司是专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及其设备生产、具有自主知识产权的高新技术企业。公司静心钻研微波等离子体MPCVD系统已有22年的经验，目前为国内外客户提供了上百台MPCVD设备，凭借产品优异的性能和高质量的服务，公司获得用户广泛认可和好评。
HMPS-2150SP微波等离子体MPCVD系统沉积速率快、沉积质量高、沉积面积超过100mm。适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的沉积，材质表面处理、低温氧化物的生长等。
性能特点
◆微波反应腔采用新一代容积翻盖式蝶形腔体，功率密度大，承载功率高。
◆TM02双模放点，放点区域直径可达100mm，均匀沉积区直径≥90mm。
◆高功率高稳定性固态微波功率源，微波功率输出稳定性高。
◆等离子体远离石英窗。石英窗等冷散热。
◆18L/s双级旋片真空泵或分子泵（选配）。
◆性能先进，安全、可靠性强、重现性好，操作简便。
◆多参数实时监测、采集与记录，PLC屏幕控制，多重联锁保护与报警。
技术指标
| （1） | 型号 | HMPS-2150S |
| （2） | 电源 | AC380±10% V 三相五线制 50Hz，额定输入＜25KVA |
| （3） | 微波输出功率 | 0.5~15kW 连续可调 |
| （4） | 功率稳定度 | ≤±1%（@满功率） |
| （5） | 纹波 | ≤1% |
| （6） | 微波频率 | 2450MHz±50MHz |
| （7） | 测温方式 | 红外300~1400℃或双色600-1800℃，控制精度±5℃ |
| （8） | 极限真空度 | ≤ 3.7×10-3torr或6×10-6torr |
| （9） | 腔体内工作压力 | 8torr~220torr |
| （10） | 自动气压控制 | 0.1torr |
| （11） | 等离子放电区域 | Φ≥100mm |
| （12） | 均匀沉积区域 | Φ≥90mm |
| （13） | 工作气体 | 五路（可用户定制） |
| （14） | 微波泄漏值 | ＜5mW/cm2 |
| （15） | 工作环境 | 温度15~40℃，相对湿度≤60%，无腐蚀性气体 |
| （16） | 系统供水 | ＞46L/Min |
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