产品概述
HMPS-9750S微波等离子体CVD设备
成都纽曼和瑞微波技术有限公司是专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及其设备生产、具有自主知识产权的高新技术企业。公司静心钻研微波等离子体MPCVD系统已有22年的经验，目前为国内外客户提供了上百台MPCVD设备，凭借产品优异的性能和高质量的服务，公司获得用户广泛认可和好评。
HMPS-9750S微波等离子体MPCVD系统沉积速率快、沉积质量高、沉积面积超过6inch。适合6英寸及以上高品质纳米晶及超细纳米晶金刚石、光学级金刚石窗口的批量生长及多种薄膜的CVD制备、材料表面处理和改性、低温氧化物的生长等。
性能特点
◆微波反应腔新型设计，新一代大容积下馈式大型环形工作腔体，可承载超大容量的微波功率，功率密度大。
◆独立开发，自主知识产权，精密设计与仿真。
◆高功率固态微波源或者开关型微波功率源，微波功率输出稳定性高。
◆进口高精度MFC，高可靠稳定压力控制系统。
◆性能先进，安全、可靠性强、重现性好，操作简便。
◆多参数实时监测、采集与记录，PLC屏幕控制，多重联锁保护与报警。
技术指标
| （1） | 型号 | HMPS-9750S |
| （2） | 电源 | AC380±10% V 三相五线制 50Hz，额定输入≤150KVA |
| （3） | 微波输出功率 | 5~75kW 连续可调 |
| （4） | 功率稳定度 | ≤±1%（@满功率） |
| （5） | 纹波 | ≤1% |
| （6） | 微波频率 | 915MHz±15MHz |
| （7） | 测温方式 | 红外双波长475-1475℃ |
| （8） | 极限真空度 | 6×10-6torr |
| （9） | 腔体内工作压力 | 8torr~220torr |
| （10） | 自动气压控制 | ±0.1torr |
| （11） | 等离子放电区域 | Φ≥240mm |
| （12） | 有效沉积区域 | Φ≥220mm |
| （13） | 工作气体 | 五路（可用户定制） |
| （14） | 微波泄漏值 | ＜5mW/cm2 |
| （15） | 工作环境 | 温度15~40℃，相对湿度≤60%，无腐蚀性气体 |
| （16） | 冷却水 | ＞210L/Min |
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