产品概述
HMPS-2120S微波等离子体CVD设备
成都纽曼和瑞微波技术有限公司是专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及其设备生产、具有自主知识产权的高新技术企业。公司近年已为中科院、中物院、吉林大学、南京大学、四川大学等、宁波晶钻公司、北京沃尔德公司等科研院所、知名企业以及国外客户提供了近百台MPCVD设备,凭借产品优异的性能和高质量的服务,公司获得用户广泛认可和好评。
性能特点
微波功率容量大、功率密度高;
◆沉积面积大、速率快、质量高;
◆安全可靠,满足单晶、多晶金刚石产业化生产运行;
◆第三代高稳定固态功率源,新型下馈式大容积碟形放电工作腔;
◆微波功率0.5~12kW连续可调,稳定度1%;
◆放电区Φ≥100mm;均匀沉积区Φ≥75mm;
◆工作气体:H2/CH4/N2/CO2或O2或Ar;
◆极限真空度:6×10-4Pa;真空漏率:10-9Pa·m3/s;
◆工作压力:0.1~30kPa;自动控制;
◆红外测温:600~1800℃(双色);
◆PLC和15寸触摸屏多参数自动控制。
技术指标
(1) | 型号 | HMPS-2150S |
(2) | 电源 | AC380±10% V 三相五线制 50Hz,额定输入<25KVA |
(3) | 微波输出功率 | 0.5~6kW 连续可调 |
(4) | 功率稳定度 | ≤±1%(@满功率) |
(5) | 纹波 | ≤1% |
(6) | 微波频率 | 2450MHz±50MHz |
(7) | 测温方式 | 红外300~1400℃,控制精度±5℃ |
(8) | 极限真空度 | 6×10-6torr |
(9) | 腔体内工作压力 | 7torr~250torr |
(10) | 自动气压控制 | 0.1torr |
(11) | 等离子放电区域 | Φ≥100mm |
(12) | 均匀沉积区域 | Φ≥80mm |
(13) | 工作气氛 | 五路(可用户定制) |
(14) | 微波泄漏值 | <5mW/cm2 |
(15) | 工作环境 | 温度15~40℃,相对湿度≤60%,无腐蚀性气体 |
(16) | 冷却水 | >46L/Min |
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