CVD培育钻石与HPHT培育钻石的区别在哪儿？

CVD培育钻石与HPHT培育钻石的区别

1、HPHT培育钻石(High Pressure High Temperature)是指「高温高压法」。过程是模仿天然钻石的生长过程，将钻石种子放置于指定的高压力及高温度条件的空间内，将纯碳材料（如石墨）熔化分解碳原子，借助其他金属助熔剂，降低钻石生长所需的条件，碳材料会借助助熔剂向钻石种子移动并结晶，形成钻石晶体。HPHT培育钻石的生成对技术及仪器要求较CVD培育钻石更高，但是以往的HPHT培育钻石有可能会带有金属助熔剂的内含物。

2、CVD培育钻石(Chemical Vapor Deposition)是指「化学气相沉积法」。过程是在存放着钻石种子(一块很小的天然钻石)的特定真空环境中引入含碳原子(钻石的成份是碳原子)的化学气体，利用微波及高温令气体中的碳原子活化并释放出来，令碳原子沉积在钻石种子上，持续进行并累积生长成钻石晶体；于生长周期内会定期取出该原石打磨表面，并除去该表面的非碳原子元素。虽然CVD技术会在过程中伴随地产生不同的副产品，但大多会随着气流被带走，而不会留在钻石种子上。因此，以CVD技术生成的钻石比较容易控制钻石的净度。