微波等离子体 CVD 设备：生长高质量碳材料的首选

众所周知，微波等离子体CVD设备其是合成高品质碳材料最常用的CVD技术，也是近些年来研究的热点和重心。

其中等离子体是一种包含中性基团例如分子和原子，带电基团例如电子和离子的气体状物质，并表现出高度激发的不稳定态，但其整体上体现出电中性。

微波等离子体CVD设备的基本原理是由微波源产生一定频率的微波，并通过波导管和模式转换天线传输到谐振腔中，并在沉积台的正上方产生稳定的高场强区域。通入的反应气体在高场强区域激发产生等离子体，并在等离子体区域产生大量的活性基团，当它们扩散吸附到衬底表面时，便可以沉积产生碳材料。

微波等离子体CVD设备相比于其他CVD设备具有独特的优势。其优点是沉积质量高、面积大以及工艺参数易于调节。因为微波放电不需要电极，也不需要像热丝CVD那样需要热丝，避免了金属污染，提高了沉积材料的质量；而且微波放电产生的电场非常稳定，比燃烧火焰CVD的不可控因素少，也为生成碳材料的高品质提供了有力的保证。

不同的方法适用于不同的情形，也不是说微波等离子体设备就适用于所有的应用环境。作为资深MPCVD设备厂家—和瑞微波认为客户在对碳材料的质量要求高时，最佳的选择就是微波等离子CVD设备。