微波等离子体-MPCVD/培育钻石/金刚石材料生长/薄膜沉积【设备系统厂家】-成都纽曼和瑞微波技术有限公司

先进的微波等离子体（MPCVD）系列

高端装备制造商

———— HUERAY MICROWAVE

ABOUT US

关于我们

成都纽曼和瑞微波技术有限公司是一家专业从事微波能和微波等离子体应用技术研发和生产的高新技术企业。公司目前已拥有一支集高频，微波和等离子体技术、电气自控技术、机械以及成套工程技术和高级管理相结合的精干技术队伍。其中包括有教授级高工、机械和电气高级工程师、经济师、工程师、高级技师和硕士研究生等。和瑞具有完备的测试手段，包括微波网络分析仪，计算机CAD和仿真系统，多种先进的微波实验系统以及必要的工艺和机械加工装配手段。

PRODUCTS

产品中心

HMPS系列微波等离子体CVD设备 DiaMiner系列培育钻石设备微波发生器

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资质荣誉Qualification Honor

9已获得9项各专业资质荣誉

化学气相沉积证书

国家高新技术企业

微波能产业应用联盟

中国化工学会会员

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专利技术Technology Patent

18已获得48项专利技术

一种组合式微波气氛熔化装置

一种组合式可调微波模式变换器

一种连续式微波等离子体石墨烯制备系统

一种可调谐圆抛腔式高功率微波等离子体化学气相沉积装置

一种可开闭式微波抑制器

一种多热源茶叶杀青加热腔体

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TECHNOLOGY PATENT

核心技术

发生和控制

微波发生和控制技术，其体现在不同频率段、不同输出功率下的微波发生器和控制方式
传输及结构

微波传输技术及其结构设计技术，其体现在微波传输波导至应用环节过程中传输与匹配
应用及控制

微波终端应用环节的结构及控制设计技术，其体现在终端应用环节的各种腔体，装置和系统设备
应用及工艺

微波等离子体化学气相沉积金刚石及多种碳基材料制备的工艺技术
用途及特点

2-12英寸金刚石材料生长能力，性能先进、功能完善、自动化程度高

HUERAY MICROWAVE NEWS

公司动态

行业动态

培育钻石百科

和瑞微波成功研制1KW大面积微波等离子体系统和8mm微波等离体诊断系统

发布于2006-10-12

国产MPCVD设备价格下降超四成，金刚石产业化降本通道打开

大功率MPCVD设备均价已从800万—1200万元降至300万—500万元，降幅超四成，金刚石产业链上游装备瓶颈正被打开。本文解析MPCVD设备国产化的降本逻辑与工艺自主价值，介绍和瑞微波6kW至75kW、2450MHz至915MHz全系列MPCVD设备方案，主力机型HMPS-9750S采用915MHz/75kW固态微波源与TM02双模放电，均匀沉积区不小于200mm，支持2—12英寸衬底金刚石沉积，应用于5G基站、AI芯片散热、光学窗口及超硬加工等领域。

发布于2026-09-29

金刚石薄膜的“锻造炉”：为何MPCVD技术独占鳌头

在材料科学的尖端领域，金刚石薄膜因其无与伦比的硬度、极高的导热性、宽广的光学透过窗口及优异的半导体潜力，被誉为“终极材料”。然而，将这种自然界最坚硬的物质，以薄膜形式“生长”在异质基片上，是一个巨大的技术挑战。这一过程的核心设备——化学气相沉积系统，如同“锻造炉”，其技术水平直接决定了金刚石薄膜的品质与未来。在众多技术路线中，微波等离子体化学气相沉积技术（MPCVD）已然脱颖而出，成为沉积高端金刚石薄膜无可争议的核心装备。

发布于2026-08-27

MPCVD设备沉积面积与腔体大小如何选择？

MPCVD设备沉积面积和腔体尺寸选型主要看产品尺寸与产能：小尺寸研发选2.45GHz/6–15kW（沉积80–100mm），大尺寸量产选915MHz/75kW（均匀区≥200mm），适用光学窗口、大尺寸热沉等。沃特塞恩HMPS-9750S采用下馈环形腔和TM02双模技术，放电直径≥300mm，满足高端制备需求。

发布于2026-07-30

微波等离子体化学气相沉积设备是什么？核心原理与优势解析

微波等离子体化学气相沉积设备（MPCVD）是目前新材料行业用于制备高纯度金刚石、超硬涂层及高端功能薄膜的核心精密装备，广泛应用于半导体、精密光学、人工金刚石培育等前沿领域。区别于传统制备设备依靠高温、高压实现材料合成的方式，微波等离子体化学气相沉积设备以微波为激励能源，在低压真空环境下激发工艺气体形成等离子体，通过气相化学反应实现原子级精准沉积生长，是当前高品质金刚石科研与工业化量产的主流设备。

发布于2026-06-18

专业金刚石材料生长技术·MPCVD设备厂家-和瑞微波

金刚石，自然界最坚硬的物质，同时拥有最高的热导率、最宽的透光窗口和优异的电绝缘性，被誉为“终极半导体材料”。然而，天然金刚石资源稀缺、价格昂贵，极大限制了其在工业与前沿科技领域的大规模应用。微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）技术的成熟，正在为这一困境提供系统性的解决方案。作为专业从事微波能和微波等离子体应用技术研发与生产的高新技术企业，和瑞微波（成都纽曼和瑞微波技术有限公司）依托二十余年技术积淀，以自主研发的MPCVD设备为核心，致力于成为 “金刚石材料生长领域解决方案提供商”

发布于2026-06-05

MPCVD设备沉积金刚石的三大核心优势

在CVD金刚石薄膜的制备过程中，MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）设备展现出多方面的突出优势，和瑞MPCVD设备在长时间运行中保持优异的沉积均匀性与工艺重复性，能够在大面积衬底上实现厚度一致、质量稳定的金刚石膜生长。

发布于2026-04-14

MPCVD技术制备大尺寸单晶金刚石，可行！

大尺寸MPCVD单晶金刚石，是指采用微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）制备得到的大尺寸、高质量单晶金刚石。和瑞微波（hueray microwave）凭借在微波等离子体领域的深厚技术积累，已成功推出具备大尺寸单晶金刚石生长能力的MPCVD设备系列

发布于2026-03-11

MPCVD设备在半导体材料制造装备中的崛起

在半导体制造装备体系中，MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）是高端薄膜沉积与先进材料生长的关键装备，承担着支撑第三代半导体、功率器件与先进封装升级的核心角色，是半导体设备中技术壁垒高、战略价值突出的细分品类

发布于2026-02-27

金刚石薄膜沉积：为何MPCVD技术是行业“王者”

在众多化学气相沉积（CVD）技术中，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）凭借其独特优势，已成为制备高端金刚石薄膜不可撼动的主流技术。相比之下，其他技术路线存在明显短板。热丝CVD虽成本低，但高温钨丝易带来金属污染；直流电弧喷射法沉积速度快，但等离子体稳定性与均匀性欠佳；燃烧火焰法则几乎无法控制质量。它们适用于对纯度要求不高的工具涂层，却难以胜任对晶体完美度有严苛要求的尖端应用。MPCVD的优势正在于解决了这些核心痛点。

发布于2026-01-23