HMPS-9750S型MPCVD设备：大尺寸金刚石生长的技术突破

HMPS-9750S 是纽曼和瑞微波全新推出的一款高性能微波等离子体化学气相沉积系统（MPCVD设备），集多项先进技术与自主创新于一体，在多个关键维度上展现出显著的产品优势，尤其适用于大尺寸、高质量金刚石薄膜及单晶材料的制备。

一、自主知识产权与创新设计

HMPS-9750S型MPCVD系统由纽曼和瑞自主研发，拥有完整的自主知识产权，确保了技术自主可控与持续迭代能力。其采用新一代大容积下模式大型环形反应腔，经精密设计与仿真优化，可承载超大功率微波输入，为实现大面积金刚石均匀沉积奠定了坚实基础。

二、卓越的等离子体性能与沉积效果

HMPS-9750S型MPCVD系统支持TM02双模放电模式，放电区域直径可达240mm以上，均匀沉积区直径不小于200mm，为大尺寸纳米晶及超细纳米晶金刚石、光学级CVD金刚石窗口、高热导率单晶金刚石热沉片的高质量制备提供了关键工艺条件。独特的腔体设计使等离子体远离石英窗口，结合风冷散热，有效保护石英窗免受污染与热损伤，提升了系统的稳定性和使用寿命。

三、高功率高稳定性的微波系统

HMPS-9750S型MPCVD系统设备配备高功率、高稳定性的固态或开关型微波功率源，频率915MHz，最大输出功率达75kW，并可在10%-100%范围内连续可调，功率稳定度优于±1%。配合手动三销钉调配器与短路活塞，实现了对微波能量的精确调控，确保工艺过程的高度重复性与可靠性。

四、精密可控的工艺环境

HMPS-9750S型MPCVD系统设备的真空系统采用双级旋片泵、分子泵与罗茨泵组合，可实现极低的极限真空度（≤6×10⁻6 Torr）。工作气压在8-220 Torr范围内可精确控制，稳定性达±0.1Torr，为不同金刚石生长阶段提供了洁净、稳定的真空环境。进口高精度质量流量控制器与可靠的压力控制系统进一步保障了工艺气体配比与压力的精确性与稳定性。

五、智能控制与安全保障

系统集成PLC与智能软件控制系统，支持手动与自动操作模式，便于工艺开发与批量生产。配备多重安全联锁机制与权限分级管理功能，全面保障设备与操作人员安全，满足工业化生产对可靠性与安全性的高标准要求。

六、高效的冷却与样品处理能力

样品台采用大面积无氧铜水冷设计（直径≥600mm），可选配钼基台（直径≥200mm），配合去离子水冷却系统，确保在高功率长时间运行过程中基片温度的均匀与稳定。双色/单色测温系统覆盖300℃至1475℃范围，满足金刚石生长对温度监控的精确需求。 

 综上所述，纽曼和瑞HMPS-9750S MPCVD设备凭借其自主创新的设计、强大的工艺能力、精密的控制系统以及全面的安全保障，在先进金刚石材料研发与产业化领域展现出强大的技术优势与应用潜力，是制备大尺寸、高性能CVD金刚石制品的理想平台。