和瑞培育钻石设备商带您了解CVD法人工制作钻石过程有哪些？

目前人工培育钻石设备是比较火爆的，而人工培育钻石目前兴起的是MPCVD法人工制作钻石，那么CVD 人工制作钻石过程有哪些？和瑞培育钻石设备商带您了解一下。

·钻石晶种置于生长室中。

·腔室充满含碳气体。

·腔室被加热到约900-1200°C。

·微波束使碳从等离子体云中沉淀出来并沉积到晶种上。

·钻石每隔几天就会被移除，以抛光顶部表面以去除任何非钻石碳，然后再放回去生长。每批钻石可能需要几个停止/启动周期，整个生长过程可能需要二到三个星期。

·取出合成钻石晶体后，就可以将它们切割和抛光成最终产品。

简单来讲，CVD 培育钻石的生长过程发生在充满氢气和含碳气体（例如甲烷）的真空室内。能量源——例如微波束——分解气体分子，碳原子向较冷、平坦的钻石种子板扩散。结晶发生在数周内，并且几个晶体同时生长。确切数量取决于室的大小和种子板的数量。板状晶体通常会形成黑色石墨的粗糙边缘，需要切掉。它们还显示出棕色，可以在刻面前通过热处理去除。与 HPHT 钻石生长过程一样，CVD 方法不断改进，并允许提供更大尺寸的钻石，同时可以改善颜色和净度。